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YQDH-500JJC多靶磁控濺射鍍膜機
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產品名稱:
YQDH-500JJC多靶磁控濺射鍍膜機
產品型號:
YQDH-500JJC
產品展商:
ghitest
產品文檔:
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簡單介紹
該鍍膜機主要用於科研實驗,可製備納米和微米的單層及多層工能膜-**硬質膜,光學膜,金屬膜,鐵磁薄膜,半導體膜,介質膜和氧化物薄膜等多種薄膜。
YQDH-500JJC多靶磁控濺射鍍膜機
的詳細介紹
產
品
簡
介
該鍍膜機主要用於科研實驗,可製備納米和微米的單層及多層工能膜-**硬質膜,光學膜,金屬膜,鐵磁薄膜,半導體膜,介質膜和氧化物薄膜等多種薄膜。
該鍍膜機為前開門式設計,功能強,鍍膜穩定,重複性好,操作簡便。真空室材料均采用優良材SUS304不繡鋼材料製造,規範,**,了材料的成膜*度。
采用分子泵+直聯機械泵機組,具有抽速快,*油,操作方便快捷,易於維護的特點。
1 鍍膜方式:可實現多靶共濺模式
2 磁控靶:圓柱/平麵靶;
3 進氣係統:三路流量計;
4 鍍膜室體積:500×500×600mm3
5 限真空度:6.7×10-5Pa; 恢複真空度:從大氣抽到6.7×10-4Pa;﹝40分鍾﹞
6 真空抽氣係統:機械泵與分子泵組成;
7 真空測量係統:數顯複合真空計;
8 工作電源:真流電源500W;射頻電源500W﹝13.56MHz﹞;加熱控溫電源;
9 工作烘烤溫度:室溫~800℃可控可調﹝PID控溫﹞;
10 選配件:石英晶振測厚儀,冷卻水機組等;
11 供電電源:三相AC380V,50Hz
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