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    產品資料

    ZH5493型射頻磁控濺射鍍膜裝置

    如果您對該產品感興趣的話,可以
    產品名稱: ZH5493型射頻磁控濺射鍍膜裝置
    產品型號: ZH5493型
    產品展商: ghitest
    產品文檔: *相關文檔

    簡單介紹

    主要由濺射鍍膜室、真空抽氣係統、氣源進氣調節係統、襯底加熱溫度控製係統、射頻電源等部分組成。由於磁控濺射能夠地控製參數和提高膜層附著力、密度及均勻性，已成為沉積薄膜的重要方法，射頻磁控濺射具有沉積速率高，可以濺射**材料，包括導體、半導體和介質材料等特點。由於在低氣壓下濺射，因此膜層致密、針孔少、*度高。


    ZH5493型射頻磁控濺射鍍膜裝置  的詳細介紹
    射頻磁控濺射鍍膜裝置 
    型號：YQ-DHRM-1     		貨號：ZH5493
    產品簡介
      主要由濺射鍍膜室、真空抽氣係統、氣源進氣調節係統、襯底加熱溫度控製係統、射頻電源等部分組成。由於磁控濺射能夠地控製參數和提高膜層附著力、密度及均勻性，已成為沉積薄膜的重要方法，射頻磁控濺射具有沉積速率高，可以濺射**材料，包括導體、半導體和介質材料等特點。由於在低氣壓下濺射，因此膜層致密、針孔少、*度高。
    可開設的實驗
    1、掌握射頻磁控濺射法製膜的基本原理；
    2、了解磁控濺射鍍膜儀的操作過程及使用範圍；
    3、磁控濺射法製備金屬膜、半導體膜、化合物膜、介質膜等薄膜。
    主要參數
    1、濺射鍍膜室：由不鏽鋼底與玻璃鍾罩組成；**尺寸：Φ220×H230mm3； 
    2、濺射鍍膜室本底真空：≤1Pa；濺射腔限真空：6×10-1Pa；
    3、濺射靶：Φ50mm，濺射靶台和濺射靶可調距離：20～60mm；
    4、基片加熱溫度可控範圍：室溫～300℃；
    5、射頻源功率：500W，13.56MHz； 
    6、氣路係統：由兩路轉子流量計控製（可選配流量計）；
    7、真空係統：2XZ-4型旋片真空泵，抽氣速率：4L/S，單相220V交流電源供電；
    8、對過流過壓、斷路等異常情況進行報警，並執行相應保護措施；
    9、供電電源：AC220V，50Hz，整機功率2KW。
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